About: 真空装置

真空装置（しんくうそうち）は、真空状態の持つ特性を利用した装置、機器である。 真空装置 真空装置はその目的を踏まえて基本仕様であるを設計しなければならない。真空システムとは以下の構成要素に成り立っている。 1. * 到達圧力　 2. * 真空の質 3. * 真空環境の継続時間 4. * 下記の放出ガスや接続部からのリークガスの継続排気 5. * 到達圧力の安定度（上記の不安定要素への真空度低下の対策、真空度上昇（過真空）の防止）で、真空対象の物質の相転移しない様に安定維持する。 6. * 温度環境 7. * 高温状態　例：核融合炉、活性金属の溶解、人工衛星の太陽光が当たる場合 8. * 低温状態　例：人口衛星が太陽光の日陰の場合、高層大気の水分子などの気体分子の挙動の研究（雨雲レーダーや気象衛星ひまわりの精度向上や通信衛星の通信強度、減衰の研究など） 9. * 真空部品の材質（放出ガス）　真空対象の物資と真空部品から、それぞれの放出ガスが発生しガス同士の反応や、真空対象の活性金属や物質と反応し製品の歩留まりや研究精度が悪くなる。そのため、真空対象の材質で真空部品の材料を選定する。 10. * 真空チャンバーの体積 11. * 真空ポンプの減圧速度　常圧状態から直ぐに減圧するのではなく、真空チャンバーや真空部品を予熱（ベーキング）し、真空部品などから放出ガスを放出させてから排気・減圧する。また、減圧中に真空対象の物質が予定外の相転移、急沸騰、急膨張をしないように、物質や真空チャンバーの温度調整を行う。そのため、真空対象より大型である真空チャンバーの温度調整速度で減圧速度が左右される。高価で高性能、高速な真空ポンプを選んでも、温度調整中は待機、停止するのでコスパが悪くなるので、複合的な視点から真空ポンプを選定する。