電子工学において自己整合ゲートとは、MOSFETの耐熱性の高いゲート電極を、ソース/ドレイン領域をドーピングする際のマスクとして使うトランジスタ製造技術である。この技術を使うことで、ゲートとソース/ドレインとの重なりがわずかになる。 自己整合ゲートの使用は、1970年代の計算能力の大幅な向上につながった発明の1つである。自己整合ゲートは未だに多くの現代的な集積回路プロセスで使われている。

Property Value
dbo:abstract
  • 電子工学において自己整合ゲートとは、MOSFETの耐熱性の高いゲート電極を、ソース/ドレイン領域をドーピングする際のマスクとして使うトランジスタ製造技術である。この技術を使うことで、ゲートとソース/ドレインとの重なりがわずかになる。 自己整合ゲートの使用は、1970年代の計算能力の大幅な向上につながった発明の1つである。自己整合ゲートは未だに多くの現代的な集積回路プロセスで使われている。 (ja)
  • 電子工学において自己整合ゲートとは、MOSFETの耐熱性の高いゲート電極を、ソース/ドレイン領域をドーピングする際のマスクとして使うトランジスタ製造技術である。この技術を使うことで、ゲートとソース/ドレインとの重なりがわずかになる。 自己整合ゲートの使用は、1970年代の計算能力の大幅な向上につながった発明の1つである。自己整合ゲートは未だに多くの現代的な集積回路プロセスで使われている。 (ja)
dbo:thumbnail
dbo:wikiPageExternalLink
dbo:wikiPageID
  • 3899998 (xsd:integer)
dbo:wikiPageLength
  • 10457 (xsd:nonNegativeInteger)
dbo:wikiPageRevisionID
  • 85553988 (xsd:integer)
dbo:wikiPageWikiLink
prop-ja:wikiPageUsesTemplate
dct:subject
rdfs:comment
  • 電子工学において自己整合ゲートとは、MOSFETの耐熱性の高いゲート電極を、ソース/ドレイン領域をドーピングする際のマスクとして使うトランジスタ製造技術である。この技術を使うことで、ゲートとソース/ドレインとの重なりがわずかになる。 自己整合ゲートの使用は、1970年代の計算能力の大幅な向上につながった発明の1つである。自己整合ゲートは未だに多くの現代的な集積回路プロセスで使われている。 (ja)
  • 電子工学において自己整合ゲートとは、MOSFETの耐熱性の高いゲート電極を、ソース/ドレイン領域をドーピングする際のマスクとして使うトランジスタ製造技術である。この技術を使うことで、ゲートとソース/ドレインとの重なりがわずかになる。 自己整合ゲートの使用は、1970年代の計算能力の大幅な向上につながった発明の1つである。自己整合ゲートは未だに多くの現代的な集積回路プロセスで使われている。 (ja)
rdfs:label
  • 自己整合ゲート (ja)
  • 自己整合ゲート (ja)
prov:wasDerivedFrom
foaf:depiction
foaf:isPrimaryTopicOf
is dbo:wikiPageWikiLink of
is owl:sameAs of
is foaf:primaryTopic of