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- 粒子線励起X線分析（りゅうしせんれいきエックスせんぶんせき、PIXE、Particle Induced X-ray Emission）とは、物質にイオンビームを照射して発生した特性X線を検出し、元素分析をする手法。 入射イオンとしては、陽子ビームが一般的に用いられる。ビーム径は2μm程度であるが、エネルギーが100eV以下では電界を用いることで0.1μmまで絞ることができる。 PIXEのほうが電子線を照射した場合よりも、バックグラウンドとなる連続X線が小さいため、検出感度が高い。 (ja)
- 粒子線励起X線分析（りゅうしせんれいきエックスせんぶんせき、PIXE、Particle Induced X-ray Emission）とは、物質にイオンビームを照射して発生した特性X線を検出し、元素分析をする手法。 入射イオンとしては、陽子ビームが一般的に用いられる。ビーム径は2μm程度であるが、エネルギーが100eV以下では電界を用いることで0.1μmまで絞ることができる。 PIXEのほうが電子線を照射した場合よりも、バックグラウンドとなる連続X線が小さいため、検出感度が高い。 (ja)
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- 粒子線励起X線分析（りゅうしせんれいきエックスせんぶんせき、PIXE、Particle Induced X-ray Emission）とは、物質にイオンビームを照射して発生した特性X線を検出し、元素分析をする手法。 入射イオンとしては、陽子ビームが一般的に用いられる。ビーム径は2μm程度であるが、エネルギーが100eV以下では電界を用いることで0.1μmまで絞ることができる。 PIXEのほうが電子線を照射した場合よりも、バックグラウンドとなる連続X線が小さいため、検出感度が高い。 (ja)
- 粒子線励起X線分析（りゅうしせんれいきエックスせんぶんせき、PIXE、Particle Induced X-ray Emission）とは、物質にイオンビームを照射して発生した特性X線を検出し、元素分析をする手法。 入射イオンとしては、陽子ビームが一般的に用いられる。ビーム径は2μm程度であるが、エネルギーが100eV以下では電界を用いることで0.1μmまで絞ることができる。 PIXEのほうが電子線を照射した場合よりも、バックグラウンドとなる連続X線が小さいため、検出感度が高い。 (ja)
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- 粒子線励起X線分析 (ja)
- 粒子線励起X線分析 (ja)
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