| Property |
Value |
| dbo:abstract
|
- Layout versus schematic (LVS) は、集積回路の設計に使用されるCADツール (プログラム)のひとつ。集積回路を製造するために作成したフォトマスクパターンが、設計した回路図と一致しているかを検証するために使用する。マスクパターンからMOSFETなどの機能素子を抽出することにより回路図を推定し、本来の回路図データと比較する。設計の元となった回路網データと、設計後から抽出した回路網データと比較することにより、意図した設計がされたかの判断を行う。 (ja)
- Layout versus schematic (LVS) は、集積回路の設計に使用されるCADツール (プログラム)のひとつ。集積回路を製造するために作成したフォトマスクパターンが、設計した回路図と一致しているかを検証するために使用する。マスクパターンからMOSFETなどの機能素子を抽出することにより回路図を推定し、本来の回路図データと比較する。設計の元となった回路網データと、設計後から抽出した回路網データと比較することにより、意図した設計がされたかの判断を行う。 (ja)
|
| dbo:wikiPageID
| |
| dbo:wikiPageLength
|
- 1708 (xsd:nonNegativeInteger)
|
| dbo:wikiPageRevisionID
| |
| dbo:wikiPageWikiLink
| |
| prop-en:wikiPageUsesTemplate
| |
| dct:subject
| |
| rdfs:comment
|
- Layout versus schematic (LVS) は、集積回路の設計に使用されるCADツール (プログラム)のひとつ。集積回路を製造するために作成したフォトマスクパターンが、設計した回路図と一致しているかを検証するために使用する。マスクパターンからMOSFETなどの機能素子を抽出することにより回路図を推定し、本来の回路図データと比較する。設計の元となった回路網データと、設計後から抽出した回路網データと比較することにより、意図した設計がされたかの判断を行う。 (ja)
- Layout versus schematic (LVS) は、集積回路の設計に使用されるCADツール (プログラム)のひとつ。集積回路を製造するために作成したフォトマスクパターンが、設計した回路図と一致しているかを検証するために使用する。マスクパターンからMOSFETなどの機能素子を抽出することにより回路図を推定し、本来の回路図データと比較する。設計の元となった回路網データと、設計後から抽出した回路網データと比較することにより、意図した設計がされたかの判断を行う。 (ja)
|
| rdfs:label
|
- Layout versus schematic (ja)
- Layout versus schematic (ja)
|
| owl:sameAs
| |
| prov:wasDerivedFrom
| |
| foaf:isPrimaryTopicOf
| |
| is dbo:wikiPageDisambiguates
of | |
| is dbo:wikiPageWikiLink
of | |
| is owl:sameAs
of | |
| is foaf:primaryTopic
of | |
