ナノインプリント・リソグラフィとは現在開発が進められている半導体の微細パターン転写技術である。 従来のパターン作成には縮小投影型露光装置 (ステッパー)が使用されていたが、微細化に伴い、極端紫外線露光装置の価格とパターンマスクの価格が高騰していて、導入に躊躇する半導体メーカーが続出しており、普及の妨げになっていた。ナノインプリント・リソグラフィが普及すれば生産性が向上し、半導体の製造コストの低減に大きく貢献する事が予想される。 一方、インプリント・リソグラフィには『パーシャルフィールド』という特有の問題もある。
Property | Value |
---|---|
dbo:abstract |
|
dbo:wikiPageExternalLink | |
dbo:wikiPageID |
|
dbo:wikiPageLength |
|
dbo:wikiPageRevisionID |
|
dbo:wikiPageWikiLink |
|
prop-ja:wikiPageUsesTemplate | |
dct:subject | |
rdfs:comment |
|
rdfs:label |
|
prov:wasDerivedFrom | |
foaf:isPrimaryTopicOf | |
is dbo:wikiPageDisambiguates of | |
is dbo:wikiPageRedirects of | |
is dbo:wikiPageWikiLink of | |
is owl:sameAs of | |
is foaf:primaryTopic of |