半導体においてキャリア生成と放射再結合とは、電荷キャリア(電子と正孔)が生成または消滅する過程のこと。 電子-正孔ペアの生成は価電子帯から伝導帯への電子遷移であり、再結合は逆の遷移である。

Property Value
dbo:abstract
  • 半導体においてキャリア生成と放射再結合とは、電荷キャリア(電子と正孔)が生成または消滅する過程のこと。 電子-正孔ペアの生成は価電子帯から伝導帯への電子遷移であり、再結合は逆の遷移である。 (ja)
  • 半導体においてキャリア生成と放射再結合とは、電荷キャリア(電子と正孔)が生成または消滅する過程のこと。 電子-正孔ペアの生成は価電子帯から伝導帯への電子遷移であり、再結合は逆の遷移である。 (ja)
dbo:thumbnail
dbo:wikiPageExternalLink
dbo:wikiPageID
  • 3884831 (xsd:integer)
dbo:wikiPageLength
  • 5904 (xsd:nonNegativeInteger)
dbo:wikiPageRevisionID
  • 74137598 (xsd:integer)
dbo:wikiPageWikiLink
prop-en:wikiPageUsesTemplate
dct:subject
rdfs:comment
  • 半導体においてキャリア生成と放射再結合とは、電荷キャリア(電子と正孔)が生成または消滅する過程のこと。 電子-正孔ペアの生成は価電子帯から伝導帯への電子遷移であり、再結合は逆の遷移である。 (ja)
  • 半導体においてキャリア生成と放射再結合とは、電荷キャリア(電子と正孔)が生成または消滅する過程のこと。 電子-正孔ペアの生成は価電子帯から伝導帯への電子遷移であり、再結合は逆の遷移である。 (ja)
rdfs:label
  • キャリア生成と再結合 (ja)
  • キャリア生成と再結合 (ja)
prov:wasDerivedFrom
foaf:depiction
foaf:isPrimaryTopicOf
is dbo:wikiPageRedirects of
is dbo:wikiPageWikiLink of
is owl:sameAs of
is foaf:primaryTopic of