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  • 極端紫外線リソグラフィ (Extreme ultraviolet lithography、EUV または EUVLとしても知られる) は、波長13.5nmに達する見込みの極端紫外線(EUV)波長を用いた次世代リソグラフィ 技術である。
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  • 極端紫外線リソグラフィ (Extreme ultraviolet lithography、EUV または EUVLとしても知られる) は、波長13.5nmに達する見込みの極端紫外線(EUV)波長を用いた次世代リソグラフィ 技術である。
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  • 極端紫外線リソグラフィ
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